一、硬質(zhì)合金環(huán)的機(jī)械研磨與拋光
1、研磨
經(jīng)平磨加工后或鑲好環(huán)座的碳化鎢硬質(zhì)合金環(huán)的研磨，加工在研磨機(jī)上進(jìn)行效率較高。以氣壓型研磨機(jī)為例，研磨盤轉(zhuǎn)速調(diào)至50r/min、精研時(shí)間為20min，采用W10金剛石研磨膏水溶性研磨劑（配比為1：400）約1min加一次、每次約5s。研磨時(shí)，將同一高度的工件放在控制環(huán)內(nèi)，并留適當(dāng)?shù)拈g隙，放上調(diào)整氈墊或橡膠墊后壓下汽缸壓板，氣缸壓力調(diào)至0.012~0.018MPa。
2、拋光硬質(zhì)合金環(huán)
經(jīng)精研后需進(jìn)行拋光加工，一方面是為了達(dá)到規(guī)定的表面粗糙度要求，另一方面也是為獲得所要求的平面度，因此拋光是密封件加工中的一道特定的光整加工工序。
拋光盤材料為鋼盤，可以選用中碳鋼或65Mn或40Cr鋼，經(jīng)調(diào)質(zhì)后加工為表面有單頭螺紋拋光盤。螺距的大小有1.75mm、1.5mm、1.0mm、0.81mm等幾種，但以0.81mm為較好。加工端面螺紋時(shí)，由外向內(nèi)順序車制一刀落成，粗糙度要求為Ra3.2~6.3μm。
拋光盤的轉(zhuǎn)速要比精研時(shí)稍高，但不宜過快，否則工件容易產(chǎn)生跳動，甚至傾倒。當(dāng)拋光盤直徑∮650mm時(shí)，轉(zhuǎn)速不宜超過60r/min。拋光時(shí)氣動加壓壓力一般為0.15MPa。拋光劑有兩種，一種是用W0.5的金剛石研磨膏加工業(yè)甘油調(diào)配成拋光劑，其比例大約為：0.2g研磨膏加6mL甘油；另一種是用W0.5金剛石研磨膏加水調(diào)配成拋光劑，其比例為：1:200。拋光時(shí)間為15min，拋光盤轉(zhuǎn)速為60r/min，拋光劑約1min加一次、每次約3s。
二、陶瓷環(huán)的機(jī)械研磨拋光
陶瓷環(huán)毛坯首先進(jìn)行粗研加工，將瓷環(huán)毛坯按厚度不同分成若干組，用70#碳化硅加水進(jìn)行粗研，每隔10~20mln要翻一次面及調(diào)正控制環(huán)內(nèi)各環(huán)的位置，重復(fù)上述工作，直到實(shí)際厚度尺寸比圖紙尺寸大0.2~0.3mm時(shí)為止。檢查每個環(huán)的平行度，保證環(huán)的平行度≤03mm，若平行度不合格或表面粗糙，可用280#碳化硅加水進(jìn)行修正，修正時(shí)仍要經(jīng)常調(diào)整各環(huán)的位置，以保證平行度要求。
陶瓷環(huán)在加工完內(nèi)孔外圓其他工序以后，后期進(jìn)行表面精研加工及拋光。精研用W20或Wl14碳化硅加配制好的研磨油進(jìn)行，壓重在0.01~0.02MPa左右，研磨大約40min后，即可取下工件，清洗干凈。研磨面上一定不能留有精研用的磨料，然后在銅盤上進(jìn)行拋光。拋光是最后一道工序，要仔細(xì)認(rèn)真操作。用W3.5或W1的人造金剛石研磨膏用水適當(dāng)稀釋后使用。拋光劑的添加要適當(dāng)，每次不要多加，工件快好時(shí)，后期可不加磨料，少加一些水即可。壓重一般在0.01MPa以下。拋光好的環(huán)要小心取下，仔細(xì)檢查，沒有問題再進(jìn)行清洗。
三、石墨環(huán)的機(jī)械研磨拋光
石墨環(huán)的研磨拋光不用磨料，直接用水或酒精即可。車好的石墨環(huán)，只在一臺研磨機(jī)上一次研磨完。研磨到一定時(shí)間后就不要加水，使盤面一直磨到基本無水時(shí)再稍磨一段時(shí)間，石墨環(huán)就會磨光到Ra0.4μm以上。研磨盤的光潔度直接決定石墨環(huán)端面的光潔度，要注意經(jīng)常檢查，研磨時(shí)間根據(jù)石墨環(huán)材質(zhì)和壓重不同而適當(dāng)調(diào)整。
